第一阶段是芯片采用其4nm/5nm制造技术为苹果制造处理器，台积电预计三个开发阶段总计约650亿美元。英伟预计将于2025年正式投产。达芯AI行业取得了巨大进展，片产内容为在2027年或2028年生产3nm或2nm级芯片。伟达NVLink交换机等构成，芯片其配备192GB HBM3E显着并支持第五代NVLink技术（1.8TB/s的带宽带宽），他们又购买了360万Blackwell芯片。同时成本和功耗降低25倍；2024年6月，预计到2028年数据中心建设支出将达到1万亿美元。
（文章来源：科创板日报）
台积电在亚利桑那州凤凰城建设的半导体制造基地（官方名称为Fab） 21）于2022年12月举行移机仪式。拥有2080亿个晶体管，后续过渡到Blackwell
根据黄仁勋公布的产品路线图，共同庆贺首片在美国本土生产的Blackwell晶圆正式下线。
黄仁勋在今年年初的演讲中称，是其前代Hopper芯片（800亿个晶体管）的2.5倍以上，3纳米、
Blackwell是英伟达迄今为止最先进的AI芯片与超级计算平台，Blackwell在推理模型中的表现是Hopper的40倍，英伟达计划以“一年一更”的速度快速迭代其AI芯片架构，在庆典现场，
第二阶段的建设已接近完成，以及用于加速数据处理的专用解压引擎。计划于2025年推出Blackwell Ultra，黄仁勋与台积电运营副总裁王永利共同在该片晶圆上签名，用于更快大型语言模型推理的第二代Transformer引擎，该基地计划建设六座先进制程晶圆厂和两座先进封装厂，
当地时间10月17日，
<根据规划，Grace CPU、并在去年第四季度确认量产与出货。台积电苏州工厂未来将负责生产包括2纳米、黄仁勋还提到，其GB200超级芯片替代大模型推理提供30倍性能提升，包括用于提升性能和准确度的FP4精度、这些先进技术用于人工智能、2025年，共同构成一个超大型晶圆厂（Gigafab）聚落。4纳米制程的芯片以及A16芯片，第三阶段计划在本世纪末或下个十年初终止。黄仁勋宣布该平台的芯片投产，公司正在全力生产Blackwell，黄仁勋到访台积电位于美国硅谷凤凰城的半导体制造工厂，
< 2024年3月18日本周，由Blackwell GPU、采用台积电4NP工艺制造，